以顆粒狀的干冰作為清洗介質,通過壓縮空氣將干冰微粒高速噴向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷凍至脆化并爆裂,干冰微粒通過撞擊作用滲透到污垢及基層材料之間,隨即升華,體積瞬時增大800倍,迫使污垢與基層材料脫離,達到清洗的目的。
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類 |
序號 |
清洗方法 |
異物粒子祛除 |
膜層祛除 |
對物件的損傷 |
干燥工序 |
環境污染 |
難題 |
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濕法 |
1 |
純水 |
一般 |
較差 |
一般 |
要 |
差 |
水膜再著附，金屬元素殘留 |
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2 |
有機溶劑 |
一般 |
較好 |
較大 |
要 |
大 |
有機溶劑再著附，溶劑后處理 |
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干法 |
3 |
納米干冰 |
很好 |
易 |
較低 |
無 |
無 |
清洗面積較小 |
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4 |
超聲波 |
一般 |
難 |
一般 |
無 |
無 |
固體異物，微細顆粒難除凈 |
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5 |
空氣 |
一般 |
難 |
一般 |
無 |
無 |
固體異物，微細顆粒難除凈 |
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6 |
大氣等離子 |
易 |
一般 |
較大 |
無 |
無 |
清洗能力較差 |
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型號 |
光學零件清洗機WMGB02 |
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外形尺寸 |
500×900×1200 |
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重量 |
60Kg |
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電源 |
AC220V 50Hz 單相 |
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功率 |
3.5kW |
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CO2噴射系統 |
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CO2 |
氣態/液態 |
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CO2壓力 |
≥1MPa |
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噴嘴規格 |
0.1mm~4mm |
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CO2消耗量 |
50~200g/min |
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CO2恒溫系統 |
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介質 |
水/制冷劑 |
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容量 |
4L |
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溫度調節范圍 |
室溫~10℃ |
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CO2增壓系統 |
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驅動介質 |
壓縮空氣 |
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驅動氣壓 |
0.1~0.8MPa |
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增壓比 |
1:15 |
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增壓量 |
320L/min |
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CDA輔助系統 |
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CDA氣體 |
壓縮空氣/氮氣 |
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CDA壓力 |
0.1~0.8MPa |
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CDA溫度調節 |
標配 |
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能高效清洗鏡頭鏡片表面細微的顆粒物、指紋等污染物。 |
服務項目
